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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱:

高溫管式爐/測試儀器

產(chǎn)品型號:HCGL-1000

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

所在地:北京市

更新日期:2023-08-09

產(chǎn)品簡介:

管式爐或馬弗爐高溫管式爐/測試儀器,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實(shí)現(xiàn)溫度的高的精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度高,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布;可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻;用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染。這就是高溫管式爐

產(chǎn)品特性Product characteristics
品牌華測

高溫管式爐/測試儀器產(chǎn)品介紹:

目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實(shí)現(xiàn)溫度的高的精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。 可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻 ,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

     高溫管式爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Α?同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講,都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。

  高溫管式爐同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,!

高溫管式爐/測試儀器主要用途:

    主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等。

 

                  本試驗(yàn)爐具有:1000度、1200度、1400度各種型號。也可根據(jù)用戶需求訂制!

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反射鏡是具有高的精度曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

設(shè)備優(yōu)勢:

高速加熱與冷卻方式:高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng),增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度高的精度控制:過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻:加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體 靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線 可傳送到加熱/冷卻室。

 應(yīng)用范圍:

1. 電子材料

◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入后

◆硅化物的形成

2. 陶瓷與無機(jī)材料

◆ 陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐。

◆陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐。

3. 鋼鐵和金屬材料

◆ 薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。

◆ 爐焊接模擬

◆ 高真空熱處理(1000°C以下)

◆ 大氣氣體熔化過程

◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

4. 復(fù)合材料

◆ 耐熱性評價(jià)爐

◆ 無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

5. 其它

◆ 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐。

◆ 分段分區(qū)控制爐

◆ 溫度梯度爐

◆ 爐氣分析

◆ 超導(dǎo)陶瓷退火爐




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